低溫恒溫槽CHWS-2G-400烏氏粘度測試分析儀主要特征：

1.觀察視窗四面透明；恒溫缸采用進(jìn)口透明材料制作，美觀、大方

2.粘度計(jì)夾具操作簡單、使用方便、美觀大方、可調(diào)水平，保證測試的精準(zhǔn)性

3.大屏幕液晶顯示，智能軟件溫度穩(wěn)定性強(qiáng)、操作簡便

4.PID自動控制也可根據(jù)不同的介質(zhì)自動整定合適的參數(shù)，使溫度更加穩(wěn)定。特殊用戶還可以人工重新調(diào)整參數(shù)

5.具有超溫保護(hù)，超溫鳴叫報(bào)警，可設(shè)定超溫報(bào)警溫度，超溫時可自動切斷負(fù)載

6.使用軟件數(shù)字鎖定控制系統(tǒng)各項(xiàng)設(shè)定值，避免無關(guān)人員進(jìn)行誤操作，保證實(shí)驗(yàn)過程數(shù)據(jù)正確

7準(zhǔn)確的溫度控制，使工作槽內(nèi)溫度快速穩(wěn)定

8.軟件系統(tǒng)方便修正顯示溫度與實(shí)際溫度的溫度差，溫度修正精度0.01℃，提高了實(shí)際測量精度

9.溫度傳感器采用雙A*標(biāo)準(zhǔn)PT100

10內(nèi)循環(huán)系統(tǒng)無噪聲，無振動的水油循環(huán)系統(tǒng)

11.制冷系統(tǒng)采用低噪音全封閉壓縮機(jī)組制冷，具有過熱過電流等多重保護(hù)

12.壓縮機(jī)可在高溫下直接啟動，快速降溫功能（0.00～120.00℃、0.00～200.00℃二種規(guī)格）

13.儀器臺面采用3mm不銹鋼材質(zhì)，保證了測粘度的穩(wěn)定性

14.可選配遠(yuǎn)程控制系統(tǒng)，國際標(biāo)準(zhǔn)Modbus RTU通訊協(xié)議

15.產(chǎn)品溫度范圍可選，0.00～200.00℃ 之間 ；16.可根據(jù)客戶需求，定制0.00～300.00℃ 之間

低溫恒溫槽CHWS-2G-400烏氏粘度測試分析儀

技術(shù)參數(shù)：

低溫恒溫槽使用時正確的操作流程

低溫恒溫槽使用時的正確操作流程。在槽內(nèi)加入液體介質(zhì)，液體介質(zhì)液面不能低于工作臺板20mm。 液體介質(zhì)的選用：工作溫度低于8℃時， 液體介質(zhì)一般選用酒精。工作溫度8至80度時，液體介質(zhì)一般選用純凈水。工作溫度80至90度時，液體介質(zhì)一般選用水油混合液。工作溫度高于90度時，液體介質(zhì)一般選用油。插上電源，開啟“總電源"開關(guān)，再開啟電源按鍵和循環(huán)按鍵。

如工作溫度高于環(huán)境溫度，按設(shè)定功能鍵進(jìn)入溫度設(shè)定值設(shè)定狀態(tài)。設(shè)定值末位閃爍，此時先按移位鍵后按加數(shù)，設(shè)定您所需的工作溫度，再按設(shè)定功能鍵并保存設(shè)定值，此時測量顯示的是當(dāng)前槽內(nèi)液體介質(zhì)的溫度，此后微機(jī)進(jìn)入自動控制狀態(tài)。按設(shè)定功能鍵5秒鐘左右，上窗口顯示PASS字樣，此時按加鍵輸入密碼，再按一次設(shè)定功能鍵進(jìn)入實(shí)際修正狀態(tài)，此時上窗口顯示SC字樣，如溫度偏高就按加鍵，偏低就按減鍵，修正完備再按設(shè)定功能鍵5秒左右退出即可。等測量值到達(dá)工作溫度時穩(wěn)定一段時間即可進(jìn)行實(shí)驗(yàn)或測試。

高精度低溫恒溫槽的內(nèi)外循環(huán)作用及應(yīng)用范圍

高精度低溫恒溫槽，又稱高精度低溫恒溫浴槽，是自帶制冷和加熱的高精度恒溫源，兼具小型冷水機(jī)的功能。廣泛應(yīng)用于石油、化工、冶金、醫(yī)藥、生化、物性，測試及化學(xué)分析等研究部門、高等院校、工廠實(shí)驗(yàn)室及計(jì)量質(zhì)檢部門。根據(jù)槽開口尺寸的不同，可在浴槽內(nèi)進(jìn)行恒溫實(shí)驗(yàn)，亦可通過軟管與其他設(shè)備相連接，與恒溫源配套使用。

外循環(huán)：通過泵的循環(huán)能力，利用出水口將保溫軟管與外部設(shè)備連接，形成封閉回路，流回設(shè)備進(jìn)水口，是將槽內(nèi)恒溫介質(zhì)外引，建立外部恒溫場。內(nèi)循環(huán)：通過泵對槽內(nèi)液體介質(zhì)的循環(huán)吞吐，增加槽內(nèi)溫度的均勻性，減少溫度波動。 循環(huán)水恒溫的應(yīng)用領(lǐng)域： 生化領(lǐng)域：旋轉(zhuǎn)蒸發(fā)儀、阿貝折光儀、旋光儀、原子吸收、ICP-MS 、ICP、核磁共振、CCD、生物發(fā)酵罐、化學(xué)反應(yīng)器(合成器)等。材料領(lǐng)域：電鏡、X射線衍射、X熒光、真空濺射電鍍、真空鍍膜機(jī)、ICP刻蝕、各種半導(dǎo)體設(shè)備、疲勞試驗(yàn)機(jī)、化學(xué)沉積系統(tǒng)、原子沉積系統(tǒng)等。醫(yī)療領(lǐng)域：超導(dǎo)磁共振、直線加速器、CT、低磁場核磁共振、X光機(jī)、醫(yī)用冷帽、降溫毯等等。物化領(lǐng)域：激光器、磁場、各種分子泵、擴(kuò)散泵、離子泵以及包括材料領(lǐng)域。使用的各種需水冷設(shè)備。